반도체에서 필요로 하는 진공공간은 Chamber Room이다. Chember의 진공 상태를 형성하기 위해서는 진공 Pump가 필요하다. Pump를 Chember 옆에 설치하여 사용하면 진공도 및 Base Pumping에 좋으나 Pump의 진동과 배기 Gas가 Run 상태에서는 치명적인 악영향을 주므로 Plan Room이란 지하공간을 만들어 POU설비 (Chiller, Scrubber, Pump)를 설치한다. 이때 Plan Room에서 Fab 까지의 진공배관이 필요한 것이다.