공정 종말점 검출
Leak detection
Plasma 공정 모니터링
Portable 광 검출 및 모니터링
 
Semiconductor/LCD/OLED
- Dry Etcher(Metal, Oxide, Poly-Si)
- CVD, Dry Cleaning Process
- Photoresist Strip
 
 
Wavelength Range 200~850nm(order)
Resolution < 1.0nm FWHM @546.1nm
Grating 600grooves/mm Ruled Type
Slit Size 10㎛
Integration Time >25msec
Number of Pixels 2048Pixels
 
Software windows 2000/XP
Interface USB 1.1/2/0
Size 155(W)X100(L)X60(H)(mm)
 
 
자체 플라스마 광원 형성 발광 및 비발광 공정에 적용
High sensitivity
- ppb 수준의 검출 한계 : Tl, Cu, Al, Si, N2, O2 등
- F, Cl 등에 대한 고감도 모니터링
- 반도체 공정의 주요 Gas 측정 : TiF, TiCl, SiF, N, OH, CN등
Optical window 증착 문제 개선
- window 증착 개선을 위한 구조 장착
- 센서 heating 가능
 

Source RF Power 13.56M㎐
Maxlmum RF Power
300W
Chamber Material
Quartz or Alumina
Size 95(W)*122(L)*112(H)(mm)
 
Semiconductor/LCD/OLED
- Dry Etcher(Metal, Oxide, Poly-Si)
- CVD, Dry Cleaning Process : Cleaning end-point detection, Leak detection
- Photoresist Strip
 
Power Requirements 220VAC±5%
Software windows 2000/XP
Interface USB 1.1/2/0
Cooling Fan or Water
Connection NW25