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| 공정 종말점 검출 |
| Leak detection |
| Plasma 공정 모니터링 |
| Portable 광 검출 및 모니터링 |
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| Semiconductor/LCD/OLED |
| - Dry Etcher(Metal, Oxide, Poly-Si)
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| - CVD, Dry Cleaning Process |
| - Photoresist Strip |
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| Wavelength Range |
200~850nm(order) |
| Resolution |
< 1.0nm FWHM
@546.1nm |
| Grating |
600grooves/mm Ruled
Type |
| Slit Size |
10㎛ |
| Integration Time |
>25msec |
| Number of Pixels |
2048Pixels |
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| Software |
windows 2000/XP |
| Interface |
USB 1.1/2/0 |
| Size |
155(W)X100(L)X60(H)(mm) |
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| 자체 플라스마 광원 형성 발광 및 비발광 공정에 적용 |
High sensitivity
- ppb 수준의 검출 한계 : Tl, Cu, Al, Si, N2, O2 등
- F, Cl 등에 대한 고감도 모니터링
- 반도체 공정의 주요 Gas 측정 : TiF, TiCl, SiF, N, OH, CN등 |
Optical window 증착 문제 개선
- window 증착 개선을 위한 구조 장착
- 센서 heating 가능 |
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| Source |
RF Power 13.56M㎐ |
Maxlmum RF Power
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300W |
Chamber Material
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Quartz or Alumina |
| Size |
95(W)*122(L)*112(H)(mm)
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| Semiconductor/LCD/OLED |
| - Dry Etcher(Metal, Oxide, Poly-Si)
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| - CVD, Dry Cleaning Process
: Cleaning end-point detection, Leak detection |
| - Photoresist Strip |
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| Power Requirements |
220VAC±5% |
| Software |
windows 2000/XP |
| Interface |
USB 1.1/2/0 |
| Cooling |
Fan or Water |
| Connection |
NW25 |
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