에이치아이티(주)

고객 만족의 극대화와 내부로의 R&D강화를 동시에
추구하는 기업이 되겠습니다.
부설연구소 연구실적

연구실적

주요연구실적
RF deposition system - 산업 자원부, 1993
고해상 광신호 분석시스템 제어 및 스펙트럼 분석 - 산업 자원부, 1995
Slurry 공급장비 개발사업 - 한국기술금융㈜, 1998
RF gas-jet boosted 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 전도성 및 비전도성의 박막분석에 관한 연구 - 산업 자원부, 1998
고감도 다중 채널 광학 기술을 적용한 RF 스퍼터링 분광분석 시스템 개발 - 산업자원부, 1999
실시간 다원소 중금속 분석을 위한 고감도 광 플라즈마 측정 기기의 개발 - 중소기업청, 2001
원격 모니터링 기술이 접합된 현장 이동식 수질 미량원소 분석기의 개발 - 산업자원부, 2001
생체 시료의 성분분석을 위한 원자방출 분석장치 - 중소기업청, 2004
반도체 공정 가스 분석기기 개발 - 에이치아이티, 2005
유도결합 플라즈마 광방출분광법에 의한 반도체 공정 가스 분석 및 공정 모니터링 장치 개발 - 에이치아이티, 2006
자체 플라즈마를 이용한 반도체 공정 챔버 조건 최적화를 위한 모니터링 장치 개발 - 중소기업청 2007
태양 전지용 공정 장비 개발 – 에이치아이티 2009
태양전지 양산 CSD System 개발 – 에이치아이티 2010
중, 소형 연마벨트 타입 패널 세정 System 개발 – 에이치아이티 2011
건식 세정 System 개발 – 에이치아이티 2014
Rework 세정 System 개발 중 – 에이치아이티 2017
특허 및 실용신안
특허(실용신안)의 명칭 특허등록번호 출원번호 등록년도
RF글로우방전을 이용한 고체시료 직접 분사장치 제 10-0154596 호 1998
고주파 글로우방전을 이용한 고체시료 직접분사장치 및 그 방법속
빈 음극관을 가지는 분광분석시스템의 글로우 방전셀
제 10-0218281 호
제 10-0453293 호
1999
2004
가스분출 글로우방전을 이용한 시료의 이온화장치를 구비하는 질량분석시스템 제 10-0437728 호 2004
전열 증기화장치 제 10-751884 호 2007
플라즈마를 이용한 시료 검출장치 및 이를 이용한 시료 검출 방법
용매 제거 장치 및 이의 사용 방법
플라스마 증착 방법 및 이를 위한 장치
제 10-06797354 호
제 10-0287836 호
제 10-0746512 호
2007
2001
2007
플라스마 장치
플라즈마를 이용한 소형화된 시료 검출장치
10-2006-0115052 2007
플라즈마 장치 특허 등록 제 10-0824361 호 2008. 04
소형 평판 패널용 세정 장치 10-2010-0107692 2009
평판 물체를 수평반송하기 위한 운반시스템 및 이를 이용한 인라인 디핑 구축 방법 10-2010-0076417 2010
박막 세정장치 제 10-1310091 호 2013
패널 세정 시스템 (Steam Pre-Heating System) 제 10-1614423 호 2016
커버글라스 세정 시스템 10-2016-110791 2016