IVD 용도
· LSI ・ MEMS ・ 파워 디바이스 제조 등의 건조
· LED ・ 태양전지 제조 등의 건조
· 포토마스크 유리 기판 제조 등의 건조
· 전기 회로 기판・부품 제조 등의 건조
IVD 특장점
· 세계 최대 시장 점유율
· 오랜 경험 및 많은 판매 실적과 함께 노하우에서 얻어진 안전 설계
· IPA Vapor 처리 탱크를 석영 Glass로 Clean 건조
· 최대의 특징인 Watermark-less 건조
· Spin건조 기술에서는 대응이 어려웠던 극박 Wafer에 최적
· 3”~ 12” Si Wafer, Glass 기판 및 복잡한 형태의 부품까지 폭넓은 건조가 가능
· Cassette 사용부터 Cassette-less 대응
· Stand-Alone에서 In-line 까지 고객의 Needs에 따른 설계