IMD 용도
· LSI ・ 파워 디바이스 제조 등의 건조
· LED ・ 태양전지 제조 등의 건조
· 포토마스크 유리 기판 제조 등의 건조
IMD 특장점
· 수세에서 건조까지 하나의 처리 탱크에서 실행하며 Watermark 억제 가능
· 상온 IPA Mist를 사용한 IPA Vapor-Less
· IPA 소비량은 IPA Vapor 건조 장치와 비교하여 약 1/10로 절감
· IPA Vapor 건조에서는 대응이 어려웠던 Resist 부착 Wafer 대응
· Carrier 사용에도 Carrier-less 건조와 동등한 건조 능력 및 시간으로 처리 가능
· Stand-Alone에서 In-line 까지 고객의 Needs에 따른 설계