PRODUCT
고객 만족의 극대화와 내부로의 R&D강화를 동시에추구하는 기업이 되겠습니다.
제품소개
반도체장비
Dryer
Dryer
Y.A.C Mechatronics IPA Film Dryer [ ＩFD ]
IFD 용도
· LSI ・ MEMS ・ Power Device 제조 등의 건조
IFD 특장점
· 수세에서 건조 종료까지 하나의 처리 탱크에서 실시하여 처리 탱크 안은 O₂GAS-LESS
· Hot DIW로 간접가열된 저온 IPA를 사용
· 순수면에 IPA막을 형성하고, 순수면을 통과 할 때, DIW → IPA막 → IPA 연속치환
· IPA막을 통과후에는 저온 IPA Vapor에 의해 IPA막 → IPA Vapor → IPA 응축치환
· Wafer에 IPA 표면 장력만 주지 않기 때문에 회로 패턴의 붕괴를 억제 가능
· Wafer면에 적합한 IPA Vapor 농도 조정으로 Watermark 억제
· IPA막에 의한 잔류 Particle 제거효과 증대
· IPA 소비량／히터 용량 등의 저감
· Stand-Alone에서 In-line 까지 고객의 Needs에 따른 설계
· Hot DIW로 간접가열된 저온 IPA를 사용
· 순수면에 IPA막을 형성하고, 순수면을 통과 할 때, DIW → IPA막 → IPA 연속치환
· IPA막을 통과후에는 저온 IPA Vapor에 의해 IPA막 → IPA Vapor → IPA 응축치환
· Wafer에 IPA 표면 장력만 주지 않기 때문에 회로 패턴의 붕괴를 억제 가능
· Wafer면에 적합한 IPA Vapor 농도 조정으로 Watermark 억제
· IPA막에 의한 잔류 Particle 제거효과 증대
· IPA 소비량／히터 용량 등의 저감
· Stand-Alone에서 In-line 까지 고객의 Needs에 따른 설계
